Учебное пособие: Методические указания и контрольные задания для студентов заочной и дистанционной форм обучения Авторы составители: к т. н., доцент Рудь В. В
Негосударственное образовательное учреждение
Институт «ТЕЛЕИНФО»
Физические основы электроники (ФОЭ)
Методические указания и контрольные задания для студентов
заочной и дистанционной форм обучения
Авторы составители: к.т.н., доцент Рудь В.В.
Редактор: д.т.н., профессор Сподобаев Ю.М.
Рецензент: д.т.н., профессор Логинов Н.П.
Самара, 2004
Физические основы электроники (ФОЭ)
Задание к выполнению контрольной работы
Целью данной контрольной работы является изучение электрофизических свойств и параметров собственных и примесных полупроводников и электронно-дырочных (p - n ) переходов, изготовленных на их основе, а также приобретение навыков их расчёта.
1. Исходные данные
1.1. Материал полупроводника – германий (Ge ) или кремний (Si ).
1.2. Концентрации примесей: в электронном полупроводнике –и в дырочном полупроводнике – .
1.3. Рабочая температура t – в 0С.
1.4. Приложенное к электронно-дырочному переходу напряжение – U, В.
2. Задание контрольной работы
В соответствии с исходными данным необходимо выполнить следующие расчеты для электронно-дырочного перехода.
2.1. Определить равновесные концентрации подвижных носителей зарядов – в собственном полупроводнике.
2.2. Найти концентрации основных: и неосновных , носителей зарядов в примесных полупроводниках.
2.3. Определить положение уровня Ферми в собственном, электронном и дырочном полупроводниках и построить энергетические (зонные) диаграммы полупроводников в масштабе по оси энергий.
2.4. Определить энергетический и потенциальный барьеры, возникающие при образовании идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.5. Объяснить образование электронно-дырочного перехода.
2.6. Определить ширину идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.7. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия.
2.8. Определить ширину электронно-дырочного перехода при подаче на идеальный переход внешнего напряжения U .
2.9. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода при подаче на него прямого или обратного напряжения U .
3. Выбор варианта задания для контрольной работы
Студенты, имеющие нечетную предпоследнюю цифру студенческого билета, выполняют задание с использованием полупроводников на основе кремния, а имеющие четную цифру – с использованием полупроводников на основе германия (см. табл. 1). Основные их параметры при температуре Т=3000К приведены в табл. 2.
Таблица 1. Выбор исходных данных к выполнению контрольной работы
№№ вари анта | Nd 1/см3 | Na 1/см3 | t С | UВ | №№ варианта | Nd 1/см3 | Na 1/см3 | t С | U В |
00 | 1017 | 1016 | 10 | 0,3 | 10 | 1016 | 1017 | 25 | 0,3 |
01 | 1017 | 1015 | 10 | 0,3 | 11 | 1015 | 1017 | 10 | 0,3 |
02 | 1017 | 5*1015 | 10 | 0,3 | 12 | 5*1015 | 1017 | 10 | 0,3 |
03 | 4*1017 | 1016 | 10 | 0,3 | 13 | 1016 | 4*1017 | 10 | 0,3 |
04 | 4*1017 | 1015 | 10 | 0,3 | 14 | 1015 | 4*1017 | 10 | 0,3 |
05 | 4*1017 | 5*1015 | 15 | 0,4 | 15 | 5*1015 | 4*1017 | 10 | 0,35 |
06 | 5*1017 | 5*1015 | 15 | 0,4 | 16 | 5*1015 | 5*1017 | 15 | 0,35 |
07 | 5*1017 | 1016 | 15 | 0,4 | 17 | 1016 | 5*1017 | 15 | 0,35 |
08 | 5*1017 | 1015 | 15 | 0,4 | 18 | 1015 | 5*1017 | 15 | 0,35 |
09 | 5*1017 | 5*1015 | 15 | 0,4 | 19 | 5*1015 | 5*1017 | 15 | 0,35 |
20 | 1016 | 5*1015 | 20 | 0,25 | 30 | 5*1015 | 1016 | 15 | 0,4 |
21 | 1016 | 1016 | 20 | 0,25 | 31 | 1016 | 1016 | 20 | 0,4 |
22 | 1016 | 1015 | 20 | 0,25 | 32 | 1015 | 1016 | 20 | 0,4 |
23 | 5*1016 | 5*1015 | 20 | 0,25 | 33 | 5*1015 | 5*1016 | 20 | 0,4 |
24 | 5*1016 | 8*1015 | 20 | 0,25 | 34 | 8*1015 | 5*1016 | 20 | 0,4 |
25 | 5*1016 | 1016 | 23 | -3 | 35 | 1016 | 5*1016 | 20 | -3 |
26 | 5*1016 | 1015 | 23 | -3 | 36 | 1015 | 5*1016 | 23 | -3 |
27 | 5*1016 | 8*1014 | 23 | -3 | 37 | 8*1014 | 5*1016 | 23 | -3 |
28 | 1017 | 5*1015 | 23 | -3 | 38 | 5*1015 | 1017 | 23 | -3 |
29 | 1017 | 8*1015 | 23 | -3 | 39 | 8*1015 | 1017 | 23 | -3 |
40 | 1017 | 1016 | 25 | -5 | 50 | 1016 | 1017 | 23 | -5 |
41 | 4*1017 | 1015 | 25 | -5 | 51 | 1015 | 4*1017 | 25 | -5 |
42 | 4*1017 | 8*1014 | 25 | -5 | 52 | 8*1014 | 4*1017 | 25 | -5 |
43 | 1016 | 1017 | 25 | -5 | 53 | 1017 | 1016 | 25 | -5 |
44 | 1015 | 1017 | 25 | -5 | 54 | 1017 | 1015 | 25 | -5 |
45 | 5*1015 | 1017 | 10 | 0,3 | 55 | 1017 | 5*1015 | 25 | 0,3 |
46 | 1016 | 5*1017 | 10 | 0,3 | 56 | 4*1017 | 1016 | 10 | 0,3 |
47 | 1015 | 4*1017 | 10 | 0,3 | 57 | 4*1017 | 1015 | 10 | 0,3 |
48 | 5*1015 | 4*1017 | 10 | 0,3 | 58 | 4*1017 | 5*1015 | 10 | 0,3 |
49 | 5*1015 | 5*1017 | 10 | 0,3 | 59 | 5*1017 | 5*1015 | 10 | 0,3 |
60 | 1016 | 5*1017 | 15 | 0,35 | 70 | 5*1017 | 1016 | 10 | 0,35 |
61 | 1015 | 5*1017 | 15 | 0,35 | 71 | 5*1017 | 1015 | 15 | 0,35 |
62 | 5*1015 | 5*1017 | 15 | 0,35 | 72 | 5*1017 | 5*1015 | 15 | 0,35 |
63 | 5*1015 | 1016 | 15 | 0,35 | 73 | 1016 | 5*1015 | 15 | 0,35 |
64 | 1016 | 1016 | 15 | 0,35 | 74 | 1016 | 1016 | 15 | 0,35 |
65 | 1015 | 1016 | 20 | 0,25 | 75 | 1016 | 1015 | 15 | 0,4 |
66 | 5*1015 | 5*1016 | 20 | 0,25 | 76 | 5*1016 | 5*1015 | 20 | 0,4 |
67 | 8*1015 | 5*1016 | 20 | 0,25 | 77 | 5*1016 | 8*1015 | 20 | 0,4 |
68 | 1016 | 5*1016 | 20 | 0,25 | 78 | 5*1016 | 1016 | 20 | 0,4 |
69 | 1015 | 5*1016 | 20 | 0,25 | 79 | 5*1016 | 1015 | 20 | 0,4 |
80 | 8*1015 | 5*1016 | 23 | -3 | 90 | 5*1016 | 8*1014 | 20 | -3 |
81 | 5*1015 | 1017 | 23 | -3 | 91 | 1017 | 5*1015 | 23 | -3 |
82 | 8*1015 | 1017 | 23 | -3 | 92 | 1017 | 8*1015 | 23 | -3 |
83 | 1016 | 1017 | 23 | -3 | 93 | 1017 | 1016 | 23 | -3 |
84 | 1015 | 4*1017 | 23 | -3 | 94 | 4*1017 | 1015 | 23 | -3 |
85 | 8*1014 | 4*1017 | 25 | -5 | 95 | 4*1017 | 8*1014 | 23 | -5 |
86 | 5*1014 | 4*1017 | 25 | -5 | 96 | 4*1017 | 5*1014 | 25 | -5 |
87 | 5*1014 | 1017 | 25 | -5 | 97 | 1017 | 5*1014 | 25 | -5 |
88 | 5*1014 | 5*1016 | 25 | -5 | 98 | 5*1016 | 5*1014 | 25 | -5 |
89 | 5*1014 | 1016 | 25 | -5 | 99 | 1016 | 5*1014 | 25 | -5 |
4. Перечень формул к выполнению контрольной работы
4.1. Для собственного (чистого) полупроводника
Для собственного (чистого или идеального) полупроводника равновесные концентрации электронов и дырок ni =pi определяются выражением
, (1)
В выражении (1) ΔW = – ширина запрещенной зоны полупроводника,
и — «дно» зоны проводимости и «потолок» валентной зоны соответственно,
k – постоянная Больцмана, равная k =1,3805*10-23 Дж/0К,
Т – абсолютная температура в градусах Кельвина (T =t + 2730К),
N – среднее геометрическое значение эффективных плотностей энергетических состояний в зоне проводимости и валентной зоне , т.е. плотность разрешенных уровней энергии (которые могут занимать электроны). Их численные значения определяются выражениями
, , (2)
. (3)
В выражениях (2) и (3) и — эффективные массы соответственно электрона и дырки, определяемые по данным табл. 2,
– масса электрона в состоянии покоя, = 9,1095*10-31 кг,
h – постоянная Планка, h =6,6262*10-34 Дж*с.
Уровень Ферми в собственном полупроводнике находится в середине запрещённой зоны и определяется выражением
, (4)
В выражении (4) WE – так называемый электростатический уровень (т.е. уровень, соответствующий середине ширины запрещённой зоны).
4.2. Для примесных полупроводников
В случае примесных полупроводников концентрации подвижных носителей зарядов n и p определяются известным соотношением концентраций подвижных носителей зарядов
. (5)
В рабочем диапазоне температур практически все атомы примеси оказываются ионизированными, поэтому с учётом того, что на практике концентрации примесей выбираются из условий Nd >> ni, и Na >>р i, для концентраций основных носителей зарядов полупроводников n и p типов с весьма высокой степенью приближения соответственно выполняются условия
nn ≈ Nd и pp ≈ Na.
Тогда с учётом (5) соотношения для концентраций неосновных носителей зарядов принимают вид (6)
и . (6)
Уровни Ферми в примесных полупроводниках определяются выражениями
, (7)
. (8)
В выражениях (7) и (8) WFn – уровень Ферми в электронном полупроводнике, WFp – уровень Ферми в дырочном полупроводнике, Nd – концентрация донорной примеси, Na – концентрация акцепторной примеси.
Сравнение выражений (4), (7) и (8) показывает, что уровни Ферми собственного и примесных полупроводников неодинаковы. Иначе говоря, между ними существует следующее соотношение
WFn > WFi > WFp. (9)
4.3. Для электронно-дырочного ( p - n ) перехода
При образовании двухслойных контактов (переходов) p- i, i- n или p- n между полупроводниками, образующими их, в результате перераспределения подвижных носителей зарядов происходит выравнивание уровней Ферми, т.е. в каждом случае формируется уровень Ферми единый для всего контакта. В результате на границе раздела в контактах происходит деформация энергетических зон и образование энергетического и потенциального барьеров (контактной разности потенциалов). Их величины и знаки можно определить с учётом (4) и (7…9).
В случае электронно-дырочного перехода энергетический барьер определится в виде
. (10)
В выражении (10) Wcp и Wcn, – границы между зонами проводимости («дно» зон проводимости) и запрещённой зоной областей p и n электронно-дырочного перехода, а Wvp и Wvn – границы между валентными зонами («потолок» валентных зон) и запрещённой зоной областей p и n .
Высота потенциального барьера (контактная разность потенциалов) в идеальном электронно-дырочном переходе в состоянии равновесия и отсутствии внешнего напряжения равна
. (11)
В выражении (11) e – заряд электрона, e =1,6022*10-19 Кл (без учёта знака).
Ширина идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия δ0определяется выражением (12)
, (12)
где – абсолютная диэлектрическая проницаемость полупроводника,
ε0– универсальная физическая постоянная (или диэлектрическая проницаемость вакуума), равная ε0=0,885*10-13 Ф/м ,
ε –относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника, определяемая из табл.2.
4.4. Для p - n перехода, смещённого внешним напряжением U
При подаче внешнего напряжения высота потенциального барьера в идеальном p-n переходе становится равной φ = φk – U, (обратное напряжение берется со знаком –).
В этом случае высота энергетического барьера p- n перехода станет равной (13)
(13)
Ширина идеального электронно-дырочного приобретает вид (14)
. (14)
Смещение уровня Ферми в пределах p - n перехода определится выражением (15)
. (15)
Равновесное состояние p-n перехода нарушается и через него преимущественно протекают либо диффузионные потоки основных зарядов (при U >0), либо дрейфовые потоки неосновных зарядов (при U <0).
5. Методические указания к выполнению работы
5.1. При выполнении расчётов следует учитывать, что параметры полупроводников приведены в табл. 2 для температуры Т =3000К. Поэтому при расчёте равновесных концентраций собственного полупроводника по формуле (1) необходимо учитывать температурные зависимости эффективных плотностей N, Nc и Nv, пользуясь выражениями (2,3,4), а также температурную зависимость ширины запрещённой зоны ΔW .
5.2. Ширину запрещённой зоны ΔW для германия при температурах выше 2000К можно определить по эмпирической зависимости ΔW =0,782 – 3,9·10-4 ·Т (эВ).
5.3. Для ширины запрещённой зоны кремния при температурах выше справедливо аналогичное соотношение ΔW =1,205 – 2,84·10-4 ·Т (эВ).
5.4. Вычисленные по п.п. 5.2 и 5.3 значения ΔW при подстановке в формулу (1) следует из эВ перевести в джоули, умножив их на заряд электрона е .
5.5. При вычислении уровней Ферми и построении энергетических диаграмм электронного и дырочного полупроводников, а также электронно-дырочного перехода необходимо в каждом случае их отсчёт производить не от уровня W =0, а от нижнего уровня зоны проводимости Wc каждой (n или p ) областей полупроводника. Тогда выражения (4), (7) и (8) преобразуются соответственно к виду
, (41 )
, (71 )
. (81 )
5.6. При построении энергетических (зонных) диаграмм рекомендуется для всех энергетических уровней использовать единицу измерения – эВ.
Таблица 2. Основные параметры Ge , Si и GaAs
Параметр (при Т=3000К) | Германий | Кремний | Арсенид галлия |
Собственное удельное сопротивление ρ, Ом.см | 47 | 2,3*105 | 108 |
Ширина запрещённой зоны ΔW з, эВ | 0,67 | 1,12 | 1,42 |
Эффективная масса электрона по отношению к массе свободного электрона mn / m 0 | 0,22 | 0,33 | 0,07 |
То же для дырок m р / m 0 | 0,39 | 0,55 | 0,5 |
Эффективная плотность состояний, см-3 | |||
в зоне проводимости Nc | 1019 | 2,8*1019 | 4,7*1017 |
в валентной зоне Nv | 6*1018 | 1019 | 7*1017 |
Собственная концентрация ni 0, см-3 | 2,4*1013 | 1,45*1010 | 1,8*106 |
Подвижность, см2 /В*с | |||
электронов μn | 3900 | 1500 | 8500 |
дырок μр | 1900 | 450 | 400 |
Коэффициент диффузии, см2 /с | |||
электронов Dn | 100 | 36 | 290 |
дырок Dр | 45 | 13 | 12 |
| Электрическое поле пробоя, В/см | 1,42 | 1,05 | 1,15 |
Относительная диэлектрическая проницаемость ε | 16 | 12 | 13 |
5. Литература
1. Петров К.С. Радиоматериалы, радиокомпоненты и электроника: Учебное пособие/ – СПб. Питер, 2003. – 512 с.: ил.
2. Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы: Учебник для вузов. 7-е изд., испр. – СПб.: Издательство «Лань», 2003. – 480 с.: ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература).
3. Батушев В.А. Электронные приборы: Учебник для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М: Высш. шк., 1980. – 383 с.: ил.
4. Электронные приборы: Учебник для вузов/ В.Н. Дулин, Н.А. Аваев, В.П. Дёмин и др.; Под ред. Г.Г. Шишкина. – 4-е изд., перераб. и доп.. – М: Энергоатомиздат, 1989. – 486 с.: ил.
5. Фридрихов С.А. Мовнин С.М. Физические основы электронной техники: Учебник для вузов. – М.: Высш. шк., 1982. – 608 с.: ил.
6. Степаненко И.П. Основы микроэлектроники: Учеб. пособие для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Лаборатория базовых знаний, 2000. – 488 с.: ил.
7. Пасынков В.В., Сорокин Материалы электронной техники: Учебник. 5-е изд., стер. – СПб.: Издательство «Лань, 2003. – 368 с., ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература).
8. Андреев В.М. и др. Материалы микроэлектронной техники: Учеб. пособие для вузов. – М.: Радио и связь, 1989.
9. Бреус. А.И. Физические основы электроники.: Конспект лекций. – Самара: 2003. – 58 с.: ил.
10. Логинов Н.П., Рудь В.В., Маслов М.Ю., Ситникова С.В. Химия радиоматериалов: Методические указания и контрольные задания для студентов дневной, заочной и дистанционной форм обучения всех специальностей по направлению «Телекоммуникации». – Самара: ПГАТИ, 2003. – 18 с.: ил.
11. Рудь В.В., Коновалов А.П., Луппов А.Н., Ситникова С.В. Методическая разработка по темам лабораторных модулей 3,4,5. Исследование полупроводниковых приборов. – Самара: ПГАТИ, 1995. – 102 с.: ил.
ПРИЛОЖЕНИЕ
Значения энергии ионизации (активации) примеси различного типа
Полупроводник электронного типа
Донорная примесь | Энергия ионизации примеси D Wd (эВ) | |
Материал | ||
Германий ( Ge ) | Кремний ( Si ) | |
Фосфор (Р ) | 0,012 | 0,044 |
Мышьяк ( As ) | 0,013 | 0,049 |
Сурьма ( Sb ) | 0,0096 | 0,039 |
Полупроводник дырочного типа
Акцепторная примесь | Энергия ионизации примеси D Wa (эВ) | |
Материал | ||
Германий ( Ge ) | Кремний ( Si ) | |
Бор (Р ) | 0,0104 | 0,045 |
Алюминий ( Al ) | 0,01 02 | 0,0 57 |
Галлий ( Ga ) | 0,0108 | 0,065 |
Индий ( In ) | 0,0112 | 0,16 |